您所在的位置是: 首頁(yè) » ASEMI學(xué)院 » 大師談 » ASEMI低壓降二極管工藝技術(shù)的更新?lián)Q代!
ASEMI低壓降二極管
新型工藝技術(shù)分解
低壓降肖特基二極管工藝技術(shù)是怎么樣的呢?看看ASEMI工程為您解讀新型工藝的分解
如今隨著低壓降肖特基二極管逐漸面世,SBT20100VF為何一出市就遭到瘋搶?SBT20100VF和SBT20100UF又有何區(qū)別呢?
每一代的低壓降肖特基二極管采用著不同LOW VF肖特基芯片制造和成品封裝工藝,那么產(chǎn)品更新?lián)Q代中又有著哪些同工異曲呢?ASEMI工程師為您分析。
SBT20100VF和SBT20100UF此類20A,100V低正向肖特基產(chǎn)品是2016年市場(chǎng)熱點(diǎn)產(chǎn)品,定額電流下,正向壓降比常規(guī)肖特基低近30%。采用先進(jìn)的溝槽制造工藝,可提高2%以上的滿載效率.ASEMI品牌低壓降肖特基的SBT20100VF和SBT20100UF,兩者都是采用TRENCH先進(jìn)工藝,同是三只腳共陰結(jié)構(gòu)。
SBT20100VF的V代表V版LOW VF(100V V版VF=0.63v),而SBT20100UF的是代表
ULTRA LOW VF(100V U版VF=0.58v)。我們也可以從表圖看出SBT20100VF和
SBT20100UF之間差異主要在于VF值。
首先,我們ASEMI品牌的低壓降肖特基二極管,歷經(jīng)五年開發(fā),目前已擁有三代LOW VF SKY。該產(chǎn)品主要專注于對(duì)電源轉(zhuǎn)換效率,而達(dá)到超低VF值特性和快速開關(guān)特性,能助您電源產(chǎn)品提升電源開關(guān)效率及節(jié)能的要求,ASEMI對(duì)低壓降肖特基二極管每一代都有著新突破的技術(shù)更新。
ASEMI低壓降肖特基第二代,采用平面MOS工藝,將MOSFET制造工藝融入于肖特基芯片制程中,增加芯片晶胞結(jié)構(gòu)的密度,從而克服傳統(tǒng)肖特基在VF和IR在參數(shù)上的平衡問題,即保持了傳統(tǒng)肖特基的優(yōu)點(diǎn),又解決了傳統(tǒng)肖特基在漏電設(shè)計(jì)上做遇到的屏障。ASEMI品牌五年來對(duì)該技術(shù)專研,如今又有著何“芯”突破呢?
強(qiáng)元芯電子
will be better
END
ASEMI低壓降的更新?lián)Q代
低壓降年度爆款
歷經(jīng)三代更替
平面工藝分解(第二代)
全國(guó)服務(wù)熱線
400-9929-667